两个芯片的新消息传来，关于ASML和台积电，信息量十足
芯片已经成为当下最主要的元器件，可以说是没有之一，因为进入互联网时代后，芯片的应用越来越广泛。
如今，5G和物联网时代又相继开启，芯片的使用量更是持续上涨，尤其是物联网设备和智能电动汽车。
仅以智能电动汽车为例子，其采用的芯片数量就是传统燃油汽车的好几倍。再加上，全球缺芯和美修改规则，芯片的重要性达到了空前。
也正是因为如此，全球各大芯片企业都在积极扩大产能，三星、台积电分别投资2000亿美元、1000亿美元扩产，英特尔也进入芯片代工领域内。
然而，就在近日，两个芯片新消息传来，关于ASML和台积电，关键是信息量十足。
第一个消息，台积电方面表示未来1年多时间里，芯片产能仍紧张。
在芯片制造企业中，台积电是全球范围内获得芯片代工订单最多的企业，拿下了全球54%的芯片订单，仅EUV光刻机数量，就超过了50台。
尽管如此，在全球缺芯的情况下，台积电全力生产制造芯片仍供不应求。数据显示，从今年1月份开始，台积电就不断提升汽车芯片的产能，至今也不能满足需求。
也正是因为如此，美要求台积电、三星等芯片制造企业交出库存、订单以及销售记录等消息。
不仅如此，台积电还积极扩大芯片产能，先是提升28nm等芯片的产能，随后又提升5nm等芯片产能。
甚至台积电还将芯片代工价格提升20%，在这样的情况下，苹果和台积电方面仍表示，芯片产能依旧紧张。
其中，苹果方面表示，今年后半年产品将出现紧缺的情况，甚至会持续到明年，台积电则表示缺芯的情况到明年也难以缓解。
这意味着在未来1年多的时间里，汽车等行业的缺芯情况将持续，汽车等产品的价格还将保持在一个较高的水平。
第二个消息，铠侠和佳能等联合研发出来5nm芯片制造的新技术。
都知道，要想生产制造5nm等先进制程的芯片，必须要用到ASML的EUV光刻机，如今，情况发生了变化，不用EUV光刻机也能够生产制造5nm芯片。
原因是铠侠、佳能等多家厂商联合研发了4年之久，日前正式推出了NIL制程技术，并采用NIL制程技术制造了15nm制程的芯片。
根据佳能等方面发布消息可知，其计划在2025年推出NIL制程技术的5nm芯片。
不仅如此，其还将推广该技术，让更多厂商使用该技术生产制造芯片，甚至是CPU等芯片。
这一消息的出现，对于ASML的而言可不是一个好消息。
因为ASML的营收和利润主要来自ASML，而ASML一直都在提升EUV光刻机的产能，目的就销售更多EUV光刻机，以提升利润等。
如今，铠侠、佳能等企业联合推出了NIL制程技术，不仅能够降低10%的耗电量，还能够节约40%的投资资金（EUV光刻机售价超过1亿美元）。
最主要的是NIL制程技术主要应用在储存类芯片上，而三星、美光以及海力士等企业的每条生产线上要用1.8台EUV光刻机，才能够将EUV应用层从1提升到5。
也就是说，一旦更多厂商使用NIL制程技术，这必然会影响到ASML的EUV光刻机销量，更何况，很多厂商都认为EUV光刻机价格高，关键是没货还需要等。
总结一下就是，缺芯还将持续一段时间，尤其是汽车芯片、电源管理芯片等，同时，EUV光刻机也不再是生产制造5nm芯片的必备设备了。
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